Ebenheitsmessgerät für Keramikplatten

Das Messgerät für die Ebenheit von Keramikplatten der RF-Serie wurde speziell für die Messung der Ebenheit von Keramikplatten in der Halbleiterindustrie entwickelt. Das Messgerät kann die Ebenheit der Keramik in verschiedenen Richtungen messen, die Oberflächenform der Keramikplatte durch seine eigene Datenanalysesoftware simulieren und kann als effektives Werkzeug für die Qualitätskontrolle von Keramikplatten bei Halbleiterherstellern eingesetzt werden.

Das Ebenheitsmessgerät für Keramikplatten der RF-Serie hat eine Messauflösung von {{0}},1 µm und eine Messgenauigkeit von < 0,5 µm/1000 mm. Während des Messvorgangs werden die Daten in Echtzeit übertragen und im gespeichert Computer.

Nachdem die vom Messgerät gesammelten Daten von einem speziellen Programm verarbeitet werden, kann der Ebenheitswert in einer bestimmten Richtung der Keramikplatte generiert werden. Gleichzeitig kann die Morphologie in dieser Richtung auch durch eine Kurve widergespiegelt werden

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