Chemisch-mechanische Poliermaschine (CMP)

EXPERTE für hochpräzise Planbearbeitung

Konzentrieren Sie sich seit der Gründung von LSTD vollständig auf die hochpräzise Planbearbeitung. Entwicklung und Einführung neuer und fortschrittlicher Läpp-/Polierprodukte und -technologien für Kunden auf der ganzen Welt; Mit umfangreicher Erfahrung in der ultrapräzisen Flachbearbeitung ist LSTD bestrebt, unseren Kunden auf der ganzen Welt zuverlässige Gesamtlösungen zu bieten.

Fachwissen aus integriertem Know-how in verschiedenen Materialien

Zu den Branchen, die wir beliefern, gehören: Halbleiter, Optoelektronik, Präzisionsoptik, Präzisionskeramik, Kernkraftwerke, Erdölförderung und industrielle Anwendungen.

Wir widmen uns der Bereitstellung maßgeschneiderter Gesamtlösungen

Erfüllen Sie eine breite Palette von Kundenanforderungen aus den Bereichen Maschinen und Maschinenmodifikation, Verbrauchsmaterialien, Prozessentwicklung und Subunternehmerservice.

 

 

 

 

 

Chemisch-mechanische Poliermaschine (CMP).

 

CP Chemical Mechanical Polishing Machine

CP Chemisch-mechanische Poliermaschine (CMP-Maschine)

  • Die CMP-Serie kann Halbleitermaterialhersteller wie SI, SIC, GaAs, lnP, GaN, CdTe, Diamant usw. verarbeiten.
  • Plattendurchmesser von 381 mm bis 1500 mm.
  • Druckplattendurchmesser von 139 mm bis 576 mm.
  • Wafer-Ladekapazität 2 Zoll, 3 Zoll, 4 Zoll, 5 Zoll, 6 Zoll, 8 Zoll, 12 Zoll

 

Precise wax bonding machine

Präzise Wachsbindemaschine

  • Die Druckplatte, die Kühlplatte und andere flache Druckteile oder Druckteile der Ausrüstung werden geschliffen, um ihre Ebenheit zu kontrollieren und die Genauigkeit des Wachsens effektiv sicherzustellen.
  • Druckplattendurchmesser 360 mm max.
  • Heiztemperatur 300 Grad
  • Pneumatisch; max. 350 kg
Multi-functional polishing machine

Multifunktionale Poliermaschine

  • MFP-700A ist eine multifunktionale Poliermaschine, die speziell für Zubehör für Halbleitergeräte entwickelt wurde.
  • Vakuumspannfutterdurchmesser 450 mm, maximaler Werkstückdurchmesser 576 mm.
  • Typische Anwendung: Silizium-Ätzring, SiC-Ätzring, obere Siliziumelektrode, Duschkopf
  • Horizontaler Bewegungsabstand der Polierplatte: 0-140 mm
Automatic wafer debonding machine

Automatische Wafer-Debonding-Maschine

  • Dabei handelt es sich um eine Zusatzausrüstung in der Halbleiter-Polierwerkstatt, die mit Wachs auf Keramikplatten geklebte Wafer mithilfe eines Hackmessers automatisch in die Kassette entlädt.
  • Es kann als unabhängiges Gerät verwendet werden, wodurch das Risiko von Waferbrüchen, Kratzern usw. wirksam verringert werden kann.
  • Verbessern Sie die Effizienz des Schabens erheblich.

 

 

 

Warum ist LSTD Ihre beste Option?

 

95,{1}} Quadratfuß große Produktion und Lagerfläche.

Halbleiter-Forschungs- und Entwicklungszentrum und eigene automatische Polierlinie für SiC-Wafer.

Ein engagiertes F&E-Team mit BS-Abschluss oder höher, das sich auf die Prozessentwicklung konzentriert.
Globale Vertriebsunterstützung, Betreuung von Kunden auf der ganzen Welt (USA, Frankreich, Deutschland, Singapur, Südafrika usw.)

 

 

 

 

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